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一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:步骤1,确认雕刻路径;步骤2,正向激光雕刻;步骤3,反向激光雕刻;步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112192032 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 202011065154.0
(22)申请日 2020.09.30
(71)申请人 深圳市睿达科技有限公司
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