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本发明涉及一种沉积设备和相关联的方法。根据本发明，提供了一种用于将材料沉积到衬底上的磁控管溅射设备，所述磁控管溅射设备包括：腔室，所述腔室包括衬底支撑件和靶材；等离子体产生装置，所述等离子体产生装置被配置成在所述腔室内产生适用于将材料从所述靶材溅射到所述衬底上的等离子体；以及导热栅格，所述导热栅格包括多个单元，其中每个单元包括孔口，并且其中所述单元的高度与所述孔口的宽度的比率小于1.0，并且其中所述栅格安置于所述衬底支撑件与所述靶材之间，并且基本上平行于所述靶材，并且所述衬底支撑件的上表面定位于
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112176300 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 20201
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