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本发明公开了一种低硅、低镁杂质合金深度脱硅、脱镁方法。本发明采用的方法为:1)合金熔化:将合金加入中频炉,升温熔化;2)通氧吹炼:合金熔化后,中频炉断电,将吹氧管插入熔体中,利用空压机进行鼓气吹炼,并加入硅石造渣,空气流量4~6m3/h;3)升温加热:吹炼火光呈红色时,需停止吹炼,重新通电升温,将中频炉中物料熔化;4)出渣:将炉中造出的渣舀出,再回到步骤2、步骤3和步骤4,至空气量耗完结束;5)出合金:停止吹炼,将中频炉中的熔体倾倒至坩埚中,待冷却至室温取出,将样品取出进行渣铁分离,所述合金产品
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112176192 A (43)申请公布日 2021.01.05 (21)申请号 202011018868.6 (22)申请日 2020.09.24 (71)申请人 衢州
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