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本发明公开一种低电阻触控线的像素结构及其制备方法,其包括由下至上设置基板上的第一金属层、栅极绝缘层、半导体层、第二金属层、第一绝缘层、有机层、第三金属层、第二绝缘层、像素电极、第三绝缘层和共通电极;第一金属层作为薄膜晶体管栅极;半导体层作为薄膜晶体管半导体沟道;第二金属层作为触控线一层;第三金属层作为触控线另一层,第三金属层通过第一层绝缘层上的连接通孔连接第二金属层以作为触控线;位于共通电极与第三金属层之间的第三绝缘层、第二绝缘层、有机层和第一绝缘层的竖直方向设置连接通孔,共通电极通过连接通孔与
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114784020 A
(43)申请公布日 2022.07.22
(21)申请号 202210420000.1
(22)申请日 2022.04.20
(71)申请人 华映科技(集团)股份有限公司
地址
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