半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉.pdf

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本发明提供一种半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉，炉门本体用于对半导体工艺炉的炉体进行密封，炉门本体中设置有气冷通道，气冷通道均匀分布在炉门本体中，气冷通道用于供预设温度的冷却气体通入，冷却气体包括在预设温度下为气态的工艺副产物；检测组件用于检测气态的工艺副产物是否在气冷通道中冷凝；加热部件设置在炉门本体上，用于在检测组件检测到气态的工艺副产物在气冷通道中冷凝时，对炉门本体进行加热，直至工艺副产物恢复为气态。本发明提供的半导体工艺炉的炉门及半导体工艺炉，能够减少工艺副产物冷凝颗粒及金属离子的产生，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114774884 A (43)申请公布日 2022.07.22 (21)申请号 202210461291.9 (22)申请日 2022.04.28 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司地址