掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法.pdf

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本公开涉及一种掩模版、光刻装置和用于制造掩模版的方法，掩模版包括：电解反应层，电解反应层包括电致变色材料；第一控制电路层，第一控制电路层设于电解反应层的第一侧上，且第一控制电路层包括多个第一控制电极；以及第二控制电路层，第二控制电路层设于电解反应层的与第一侧相对的第二侧上，且第二控制电路层包括多个第二控制电极；其中，掩模版中的像素区域的透光状态被配置为由像素区域中包含的第一控制电极的至少一部分和第二控制电极的至少一部分之间的控制电压决定，控制电压通过控制电解反应层中的电致变色材料的离子结合状态来

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114779570 A (43)申请公布日 2022.07.22 (21)申请号 202210373942.9 (22)申请日 2022.04.11 (71)申请人西湖大学