半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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半导体工艺设备.pdf

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本申请实施例提供了一种半导体工艺设备。该半导工艺设备的工艺腔室的底壁上贯穿有抽气口，抽真空装置设置于工艺腔室外侧，并且与抽气口连接；抽气调节组件包括有第一调节板、第二调节板及传动杆，第一调节板上开设有第一开口结构，并且设置于工艺腔室内的位于抽气口上方的位置；第二调节板上开设有第二开口结构，并且层叠设置于第一调节板上；传动杆与第一调节板或者第二调节板连接；通过对传动杆进行操作以带动第一调节板及第二调节板相对平移运动，以使第一开口结构与第二开口结构的重合面积发生变化，用于调节抽真空装置的抽真空速率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114783916 A (43)申请公布日 2022.07.22 (21)申请号 202210441138.X (22)申请日 2022.04.25 (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司地址