一种离子液体离子源对表面进行微加工的装置及方法.pdfVIP

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2023-05-14 发布于四川
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一种离子液体离子源对表面进行微加工的装置及方法.pdf

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本发明提供了一种离子液体离子源对表面进行微加工的装置及方法，包括半封闭且绝缘的机闸，并与机闸内底部相接触的离子源部件；设置在离子源部件下方的电极板组件；所述离子源组件包括与机闸内侧壁相配合的一体式罩体，其底端设置有发射锥；所述发射锥、电极板配置为分别施加对应的高电势、低电势；所述的电极板组件上设置有与发射锥在空间上相对应的电极板孔；所述的静电透镜设置在电极板孔底部；所述离子液体离子束分别经过设置在静电透镜底端的焦点调节装置、设置在焦点调节装置底端的射束扫描板和平行透镜后轰击设置在基片载台的材料表

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114678243 A (43)申请公布日 2022.06.28 (21)申请号 202210304821.9 (22)申请日 2022.03.23 (71)申请人西北工业大学地址 710072