半导体清洗方法.pdfVIP

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2023-05-14 发布于四川
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半导体清洗方法.pdf

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本发明涉及微电子制造领域，公开了一种半导体清洗方法，包括：S1、用紫外光照射紫外线胶带，使得所述紫外线胶带的粘度降低至第一预设粘度；S2、将半导体粘贴在所述紫外线胶带上，并等待所述紫外线胶带上的紫外线胶固化；S3、待所述紫外线胶带上的紫外线胶固化后，用去离子水对粘在所述紫外线胶带上的所述半导体进行清洗；S4、在清洗完成后，对粘在所述紫外线胶带上的所述半导体进行烘干处理；S5、在烘干完成后，用紫外光照射所述紫外线胶带，使得所述紫外线胶带的粘度降低至第二预设粘度；S6、将所述半导体与所述紫外线胶带分

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114695071 A (43)申请公布日 2022.07.01 (21)申请号 202011579352.9 (22)申请日 2020.12.28 (71)申请人东莞新科技术研究开发有限公司地址