辐射成像装置以及该辐射成像装置的制造方法.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.33万字
约 16页
2023-05-13 发布于北京
举报
版权申诉

辐射成像装置以及该辐射成像装置的制造方法.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本申请涉及辐射成像装置以及该辐射成像装置的制造方法。一种制造辐射成像装置的方法，包括：使得柔性绝缘层的第一表面与电路基板的导电部分电连接；利用保护层来覆盖导电部分的暴露部分；以及使得柔性绝缘层与基板分离，该基板与柔性绝缘层的第二表面接触。电路基板包括安装在电路基板上的集成电路。柔性绝缘层包括在第一表面上布置成二维矩阵的多个像素，以便将辐射转换成电信号。柔性绝缘层的第二表面与柔性绝缘层的第一表面相反。通过由穿过基板透射的光照射第二表面而使柔性绝缘层与基板分离。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114628422 A (43)申请公布日 2022.06.14 (21)申请号 202111481871.6 (22)申请日 2021.12.07 (30)优先权数据