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本发明提供了一种蒸发镀膜设备,包括:真空部,形成有真空腔,真空部包括第一调节件,第一调节件用于调节真空腔的真空度;蒸发部,形成有蒸发腔,蒸发部包括第二调节件,第二调节件用于调节蒸发腔的真空度;第一连通部,设置于真空部与蒸发部之间,第一连通部形成有第一通道,真空腔和蒸发腔均连通于第一通道;第一闸门,设置于第一连通部,用于导通或截止第一通道。本发明提供的蒸发镀膜设备在使用过程中能够保持真空腔的环境稳定性,减少真空度调节的作业量,有利于提高生产的连续性和生产效率,提高成膜质量和生产的良品率,降低生产成
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116043169 A
(43)申请公布日 2023.05.02
(21)申请号 202310084863.0 C23C 14/54 (2006.01)
(22)申请日 2023.01.
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