一种基于负性光刻胶极紫外光曝光的方法.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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一种基于负性光刻胶极紫外光曝光的方法.pdf

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本发明公开了一种基于负性光刻胶极紫外曝光的方法，1)在超净间黄光区通过旋涂，烘烤，去边缘残胶的方式将负性光刻胶均匀涂敷在晶圆衬底上，并将特制的硬掩模版贴合在晶圆衬底表面；2)将制备好的晶圆衬底放置在极紫外的曝光装置中，并通过积累曝光时间来达到负性光刻胶所需要的曝光剂量；3)在黄光区将曝光好的晶圆衬底先进行后烘烤，然后在丙二醇甲醚醋酸酯和异丙醇溶液中以交替浸泡的方式进行显影，最后将显影好的样品放置于干净的异丙醇中进行漂洗，用氮气吹干既可。在显微下观察曝光是否充分，有无过曝现象。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114488718 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210160748.2 G03F 7/40 (2006.01)