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本发明提供了一种晶圆冷却装置及电镀设备,其中,晶圆冷却装置包括冷却腔体、固态冷却机组及气体吹扫系统;固态冷却机组与冷却腔体的腔壁接触,冷却腔体的内部设置有多个晶圆放置架,冷却腔体和晶圆放置架均采用导热基板制成;气体吹扫系统包括若干个进气孔,若干个进气孔设置于冷却腔体的腔壁并面向晶圆放置架设置。本发明采用传导冷却和对流冷却相结合的方式,晶圆的冷却效率更高,相关工艺制程更快,且相较于单一的传导冷却方式,晶圆在降温过程中的表面温度更加均匀,从而还对保证晶圆的工艺良率有积极意义,并且,本发明支持多张晶圆
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114517329 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202210135631.9 (22)申请日 2022.02.14 (71)申请人 新阳硅密(上海)半导体技术有限公
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