在具有单基板清洁腔室的模块化抛光系统中的基板搬运.pdfVIP

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2023-05-10 发布于四川
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在具有单基板清洁腔室的模块化抛光系统中的基板搬运.pdf

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本公开内容的实施例总体涉及化学机械抛光(CMP)系统，并且更具体地，涉及用于制造半导体器件的模块化抛光系统。在一个实施例中，一种抛光系统包括：第一部分，所述第一部分具有设置在其中的多个抛光站；和第二部分，所述第二部分耦接到所述第一部分，所述第二部分包括基板清洁系统。所述基板清洁系统包括湿进/干出基板清洁模块，所述湿进/干出基板清洁模块包括限定腔室容积的腔室壳体。所述抛光系统进一步包括基板搬运器，所述基板搬运器位于所述第二部分中，其中所述基板搬运器被定位成通过形成在所述腔室壳体的一个或多个侧壁中的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114551279 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202111314539.0 H01L 21/677 (2006.01)