用于使激光均匀化的装置和包括多个这种装置的布置系统.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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用于使激光均匀化的装置和包括多个这种装置的布置系统.pdf

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本公开涉及一种用于使激光(2.1‑2.m)均匀化的装置(1.1‑1.m)，包括：—包括在第一方向上并排设置的多个微透镜(30.1‑30.n)的第一微透镜阵列(3)，—包括在第一方向上并排设置的多个微透镜(40.1‑40.n)的第二微透镜阵列(4)，其中，第二微透镜阵列(4)设置在来自第一微透镜阵列(3)的激光(2.1‑2.m)的光束传播方向上，以及第二微透镜阵列(4)的透镜顶点的平面(41)与第一微透镜阵列(3)的透镜顶点的平面(31)呈角度|α|倾斜，且其中微透镜阵列(3，4)形成为使得在第一

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114514085 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 202180005710.1 (74)专利代理机构北京超凡宏宇专利代理事务