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本发明公开了一种一种半导体晶圆DIE尺寸的测量方法,方法的步骤中含有:S1:对晶圆构建坐标系,获取晶圆的圆心坐标,获取基测DIE的尺寸及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸;其中,基测DIE为晶圆圆心附近的某个实际DIE;邻近DIE为基测DIE相邻斜角方向的实际DIE;S2:以基测DIE的尺寸以及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸对应为预排列DIE的尺寸和预排列DIE之间的间隔尺寸,并根据晶圆的尺寸、晶圆的圆心坐标、基测DIE的尺寸以及邻近DIE和基测DIE之间的间隔尺寸在晶圆上预排列出预排列
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114496826 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202111594947.6 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 江苏维普光电科技有限公司 地址 2
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