一种快捷的晶片清洁工艺.pdfVIP

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2023-05-06 发布于北京
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本发明涉及晶片清洁设备技术领域，具体为一种快捷的晶片清洁工艺，包括工作箱，所述工作箱包括壳身以及壳盖，所述壳身顶端设置工作槽，所述壳盖底端与工作槽侧壁对应位置设置安装槽，所述安装槽侧壁设置限位装置，所述壳盖底端设置调节槽，所述调节槽内滑动设置调节块，所述调节槽槽底左右两侧分别设置螺纹杆，所述调节块顶端与螺纹杆对应位置设置螺纹孔，所述螺纹杆通过螺纹配合伸入螺纹孔内，所述壳盖顶端与螺纹杆对应位置设置调节电机，所述调节电机输出端与螺纹杆连接，通过搅拌杆以及搅拌电机的设置，便于带动清洗液流动，将脱离晶片

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114308863 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111584638.0 (22)申请日 2021.12.22 (71)申请人广州