一种边射型激光元件.pdfVIP

下载本文档

0
0
约2.55万字
约 29页
2023-05-06 发布于北京
举报
版权申诉

一种边射型激光元件.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本公开提供了一种边射型激光元件，包括：基底、n型缓冲层、第一n型披覆层、光栅层、间隔层、下光局限单元、主动层、上光局限单元、p型披覆层、穿隧接面层及第二n型披覆层，穿隧接面层具有阻绝蚀刻过程的继续以将第二n型披覆层成形出预定脊状构造态样的功效。利用穿隧接面层使得一部分的p型披覆层转置成n型披覆层后将EEL元件的串联电阻降低，并使得光场与主动层耦合更趋向在主动层的中间位置以使得主动层的下半部也能够被有效的运用，以及使得光场与该光栅层相距较近，光场/光栅的耦光效率较佳，进而降低临界电流值。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114361935 A (43)申请公布日 2022.04.15 (21)申请号 202111662184.4 (22)申请日 2021.12.30 (30)优先权数据 110103352