一种用于对硅片进行抛光的抛光垫和抛光设备.pdfVIP

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2023-05-06 发布于北京
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一种用于对硅片进行抛光的抛光垫和抛光设备.pdf

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本发明实施例公开了一种用于对硅片进行抛光的抛光垫和一种抛光设备，其中，所述抛光垫的上表面包括：位于所述抛光垫的中央的圆形第一区域；与所述第一区域同圆心的呈圆环形的第二区域和第三区域，所述第二区域在径向方向上位于所述第一区域与所述第三区域之间；其中，所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域中均形成有多个直线形的沟槽，所述多个沟槽通过多个直线形的沟槽间隙彼此间隔开，其中，所述多个沟槽和所述多个沟槽间隙设置成使得在抛光过程中暂存在所述第一区域和所述第三区域中的沟槽表面上的抛光液的量大于暂存在所述第二区

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114310627 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111653943.0 (22)申请日 2021.12.30 (71)申请人西安奕斯伟材料科技有限公司