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本发明提供了一种光学参数测量方法及装置,所述方法包括:获取待测样品的测量光谱S,并获得优化谱线T;计算待测参数x的第一初值x1;创建测量光谱S的仿真光谱s和所述s的优化谱线t;计算特征差值M0,并设置所述M0的权重k0,计算特征差值Ma,并设置所述Ma的权重ka,所述M0和所述Ma是跟随所述x变化的变量;计算M的最小值,在所述M取Mmin时,所对应的待测参数x的参数值x2为所述待测参数x的最优解。本发明通过综合考量同一待测样品的不同类型光谱曲线的特性确定出待测参数初值的最优解,提高了对薄膜厚度、
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114322762 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111546851.2 (22)申请日 2021.12.16 (71)申请人 上海精测半导体技术有限公司
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