等离子体处理装置和等离子体生成方法.pdfVIP

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2023-05-04 发布于四川
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等离子体处理装置和等离子体生成方法.pdf

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本发明提供能够实现处理容器内的清洁和部件损耗的抑制的等离子体处理装置和等离子体生成方法。等离子体处理装置包括：处理容器；金属窗，其将所述处理容器的内部划分成上部的天线室和下部的处理室，并具有多个部分窗；感应耦合天线，其在所述天线室配置在所述金属窗的上部，能够在所述处理室生成感应耦合等离子体；下部电极，其能够在所述处理室内载置基片，并被施加偏置电压用的高频电功率；电容元件，其在一端与1个或多个所述部分窗连接，且在另一端被接地；和电阻元件，其与所述电容元件并联地在一端与1个或多个所述部分窗连接、且在

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114256049 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202111079857.3 (22)申请日 2021.09.15 (30)优先权数据 2020-1590