互连结构及其制作方法、存储器.pdfVIP

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2023-05-04 发布于四川
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互连结构及其制作方法、存储器.pdf

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本发明提供了一种互连结构及其制作方法、存储器。其中，所述互连结构包括：第一介质层；第二介质层，位于所述第一介质层上；第三介质层，位于所述第二介质层上；至少一个第一导电柱，贯穿所述第一介质层和所述第二介质层，并且所述至少一个第一导电柱中的每一个第一导电柱彼此之间电隔离，其中，所述至少一个第一导电柱中的每一个第一导电柱包括位于所述第一介质层中的第一部分和位于所述第二介质层中的第二部分，并且所述第二部分的径宽随着所述第二部分的高度的变化而变化；金属层，贯穿所述第三介质层，其中，所述金属层与所述至少一个

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114220791 A (43)申请公布日 2022.03.22 (21)申请号 202111414201.2 (22)申请日 2021.11.25 (71)申请人长江存储科技有限责任公司