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本发明提供一种半导体结构,包含一电阻式随机存取存储器(RRAM),一第一间隙壁结构,位于该电阻式随机存取存储器的两侧,一第二间隙壁结构,位于该第一间隙壁结构的外侧,其中该第二间隙壁结构包含有金属材料或是金属氧化物材料,以及一第三间隙壁结构,位于该第二间隙壁结构的外侧。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114256412 A
(43)申请公布日 2022.03.29
(21)申请号 202011020940.9
(22)申请日 2020.09.25
(71)申请人 联华电子股份有限公司
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