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本发明公开了一种半导体硅片清洗中的废酸处理装置,包括预降温装置、虹吸管和排酸槽;排酸槽通过虹吸管与装有废酸液的石英缸,虹吸管上设置有预降温装置,虹吸管贯穿预降温装置的降温箱体;喷洒件的U型板通过齿轮传动方式与第一冷凝管连接,第一冷凝管的底部连接有喷洒架;预降温装置的喷淋管的两端通过连接轴转动安装在降温箱盖的内壁上,连接轴通过齿轮传动方式与横杆连接,喷淋管的顶部设置有第二冷凝管;U型板与横杆通过斜杆进行连接,本发明具有结构简单,制造成本低的优点,可以将170℃的硫酸直接排放,不会破坏到厂务管道,和
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114199045 A
(43)申请公布日 2022.03.18
(21)申请号 202111507768.4
(22)申请日 2021.12.10
(71)申请人 富芯
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