光刻设备及器件制造方法.pdfVIP

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2023-04-23 发布于四川
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光刻设备及器件制造方法.pdf

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一种流体处理结构，被配置为将浸没流体限制在光刻设备中的流体处理结构和支撑台之间的区域。流体处理结构包括：在流体处理结构的侧壁处的浸没流体供应到区域的第一液体开口；在相对侧壁处从区域去除浸没流体的第二液体开口；提取器，包括多个离散的开口；提取器径向向外的一系列第一开口；和一系列第一开口的径向向外的一系列第二开口，其中提取器、一系列第一开口系列和一系列第二开口方向朝向衬底和/或支撑台，一系列第一和第二开口中的第一组与第一腔室流体连通，并且一系列第一和第二开口中的第二组与第二腔室流体连通。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113960889 A (43)申请公布日 2022.01.21 (21)申请号 202111222387.1 (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任