一种硅片双面抛光设备.pdfVIP

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2023-04-13 发布于北京
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本实用新型公开了一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、两组抛光机构以及两组真空吸取机构，所述固定圆台内设置有升降液压油缸，所述升降液压油缸的活塞杆顶端固定有所述支撑柱，所述支撑柱内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶端设置有旋转圆台，其中一组所述抛光机构和一组所述真空吸取机构设置于所述旋转圆台内，另一组抛光机构和另一组所述真空吸取机构设置于所述固定圆台内，所述抛光机构包括抛光衬垫、抛光电机、中空连杆和抛光液储存箱，所述真空吸取机构包括真空吸盘和真空气泵。本实用新型采用上述结构的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215616948 U (45)授权公告日 2022.01.25 (21)申请号 202120452261.2 B24B 29/02 (2006.01) (22)申请日 2