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本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可在常温状态下的进行湿法刻蚀、便于补充刻蚀液、可根据室温的变化调整刻蚀液的温度、便于调整刻蚀液与硅片接触面的长度的常温湿法刻蚀槽。该刻蚀槽包括刻蚀槽本体，蚀槽本体内设置有隔板，隔板的上端设置有矩形缺口，所述矩形缺口处设置有挡液结构。该刻蚀槽在使用时，先根据硅片与刻蚀液液面的预设距离调整矩形缺口的深度，然后向第一储液腔内加入足量的刻蚀液，并使得第一储液腔内的刻蚀液便会通过矩形缺口流入到第二储液腔内，当第二储液腔内流入一定量的刻蚀液时，停止向第一储液腔内加入刻蚀
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215496763 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202122084964.7
(22)申请日 2021.08.31
(73)专利权人 乐山新天源太阳能科技有限公司
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