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2023-03-20 发布于北京
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本实用新型涉及特种清洗设备技术领域，特别涉及一种清洗设备，包括机体，还包括转动设置于机体的清洗台、用于驱动所述清洗台转动的离心组件和清洗组件，清洗台上设置有吸孔，清洗台的周向设置有用于固定硅晶圆片的夹具；所述清洗组件包括设置于所述清洗台一侧的清洗架和设置于所述清洗架上用于向所述清洗台喷射二流体的二流体喷嘴。本实用新型在清洗台上设置用于吸附硅晶圆片的吸孔，并在清洗台的四周设置用于固定硅晶圆片的夹具，通过真空吸附的夹具固定的方式固定硅晶圆片，可以适用不同型号的硅晶圆片，然后在通过二流体喷嘴对硅晶圆片

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213700975 U (45)授权公告日 2021.07.16 (21)申请号 202022480923.5 (22)申请日 2020.10.30 (73)专利权人深