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2023-03-20 发布于北京
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硅碎片清洗装置.pdf

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本公开涉及一种硅碎片清洗装置，包括：主体，所述主体设有第一容腔，第一容腔中设有进液口以及出液口；硅碎片收集结构，所述硅碎片收集结构放置于第一容腔中；其中，第一容腔设有用于供硅碎片收集结构通过的第一开口；所述硅碎片收集结构的底部为网栅结构；所述主体设有框架，框架位于第一容腔中，且框架与第一容腔的底壁之间存在间隙；所述第一容腔中还设有溢流口；所述主体的内壁设有超声波振板；主体内设有一个或多个从上往下依次布置的加热器。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213728226 U (45)授权公告日 2021.07.20 (21)申请号 202021728212.9 (22)申请日 2020.08.18 (73)专利权人晶