一种靶阴极磁钢布置结构及采用该结构的磁控溅射装置.pdfVIP

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2023-03-13 发布于北京
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一种靶阴极磁钢布置结构及采用该结构的磁控溅射装置.pdf

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本实用新型一种靶阴极磁钢布置结构及采用该结构的磁控溅射装置，靶阴极磁钢布置结构，包括一个磁柱和多个磁环，磁柱的横截面宽度和磁环的横截面宽度相等，且磁柱的高度与磁环的高度相等，多个磁环的内径等差分布，磁柱设置于中心位置，磁环以磁柱为中心按内径由小到大同心相套依次排布在磁柱外。磁控溅射装置包括真空腔室、真空系统、基片、极板、电源，靶阴极磁钢布置结构设置在极板上表面，电源包括直流偏置电源、射频电源Ⅰ、射频电源Ⅱ，直流偏置电源和射频电源Ⅰ接在极板上，射频电源Ⅰ与极板之间还连接有阻抗匹配器，射频电源Ⅱ接在

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218596493 U (45)授权公告日 2023.03.10 (21)申请号 202222804686.2 (22)申请日 2022.10.24 (73)专利权人柳州长虹数控机床有限责任公司地址