一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统.pdfVIP

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2023-03-03 发布于四川
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一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统.pdf

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本实用新型提出一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统，该系统用于紫外纳米压印光刻中实现样片与掩模的自动脱模。该系统以掩模架和掩模板为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升，基片与基准掩模板接触调平后，气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升。然后在基片的下表面通正压，通过“气压压印+紫外固化”的形式进行图像转移，接着通过承片台上的三个升降气缸实现基片与掩模的自动脱模。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213149470 U (45)授权公告日 2021.05.07 (21)申请号 202020987741.4 (22)申请日 2020.06.03 (73)专利权人中国科学院光电技术研究所