一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用.pdfVIP

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2023-03-01 发布于四川
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一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用.pdf

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本发明提供了一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用，属于超精密加工技术领域。以质量百分含量计，所述化学机械抛光垫由以下原料制备得到：磨料25～45％、还原剂15～30％、氧化剂15～30％、催化剂5～20％、活性剂1～3％、结合剂5～25％和填料1～10％。本发明将各化学试剂和磨料等物质加入到抛光垫中发挥作用，抛光时使用去离子水代替抛光液，节约了抛光液生产、运输费用，可将废物排放降到最低，减少了环保处理费用，降低了生产成本；同时本发明的化学机械抛光垫还具有良好的抛光质量。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113579993 A (43)申请公布日 2021.11.02 (21)申请号 202110870787.7 (22)申请日 2021.07.30 (71)申请人河南科技学院地址