一种CVD镀膜设备的真空室.pdfVIP

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2023-03-01 发布于四川
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本实用新型涉及CVD镀膜设备技术领域，且公开了一种CVD镀膜设备的真空室，包括真空室本体，所述真空室本体前侧的下部开设有防护槽，所述防护槽内腔的后侧固定安装有伸缩杆，所述伸缩杆的前侧固定安装有操作面板。该CVD镀膜设备的真空室，通过防护槽的内腔设有伸缩板和拉板，再通过操作面板是利用伸缩杆和弹簧与防护槽内腔的后侧连接，便于在不使用操作面板时将操作面板向着防护槽的后侧移动后，向下拉动拉板使得伸缩板的底部进入到限位槽的内腔里，便于将限位槽收纳在防护槽的内腔里，避免了操作面板在不使用状态被外物碰撞导致此

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213037841 U (45)授权公告日 2021.04.23 (21)申请号 202021853580.6 (22)申请日 2020.08.31 (73)专利权人昆山福钻新材料科技有限公司