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本实用新型公开了一种用于半导体晶片制备的旋转平台,包括底座、转动装置和供气装置;转动装置为工作转盘提供旋转动力。供气装置为工作转盘提供吹吸气压。然后只需要在本申请的旋转平台四周设置光学检测、激光打印等半导体加工设备即可,通过本申请的旋转平台将需要加工的半导体晶片依次送至光学检测、激光打印等设备下,不需要为每一道加工步骤取放半导体晶片。本申请的旋转平台不需要多次取放半导体晶片,只需要一次取放半导体晶片即可完成多次半导体晶片加工步骤。为半导体晶片加工制备节约了大量的时间,同时也不必为光学检测、激光打
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213026085 U (45)授权公告日 2021.04.20 (21)申请号 202020698263.5 (22)申请日 2020.04.30 (73)专利权人 江苏同臻智能科技有限公司
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