一种改善抛光片厚度散差的抛光皮.pdfVIP

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2023-02-23 发布于四川
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一种改善抛光片厚度散差的抛光皮.pdf

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本实用新型涉及抛光技术领域，尤其涉及一种改善抛光片厚度散差的抛光皮，其特征在于，包括圆盘状的抛光皮本体，所述抛光皮本体表面均匀开设有若干由圆心指向圆周的主凹槽，且随着所述主凹槽的向外延伸，两相邻所述主凹槽之间的间距逐渐增大，所述抛光皮本体表面还开设有若干半径不等的圆环状的副凹槽，若干所述的副凹槽在所述抛光皮本体上同心设置。本实用新型通过在抛光皮本体表面开设从中心向外边缘发散的主凹槽，来增加抛光皮中心部位主凹槽的分布密度，进而增加添加到抛光皮中心部分的抛光液的量就多，进而对处于抛光皮中心处的抛光片

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212794605 U (45)授权公告日 2021.03.26 (21)申请号 202021916980.7 (22)申请日 2020.09.04 (73)专利权人浙江美迪凯现代光电有限公司