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本实用新型公开了一种多气源等离子增强CVD系统，包括炉管、三温区加热炉膛、射频线圈、第一进气口、第一卷轴、进料仓、传动电机、第二进气口、出气口、蝶阀、第二卷轴、出料仓、分子泵、机械泵、风扇、挡板阀、射频电源、流量柜体、触摸屏操控板、复合真空计和蝶阀控制器；本实用新型是采用超大管径的炉管，在原有基础上能够使用更大面积的铜箔，得到更大面积的石墨烯膜，且增加了独立的低真空和高真空系统，并通过高真空快速的使得超大管径的炉管达到所需真空度，同时通过挡板阀可在无需停止分子泵的情况下，对超大管径的炉管进行低真
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212610895 U
(45)授权公告日 2021.02.26
(21)申请号 202020940352.6
(22)申请日 2020.05.29
(73)专利权人 安
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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