一种用于卷对卷双面数字化光刻的基材平整装置.pdfVIP

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2023-02-14 发布于四川
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一种用于卷对卷双面数字化光刻的基材平整装置.pdf

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一种用于卷对卷双面数字化光刻的基材平整装置，包括基材支撑机构以及基材拉紧机构，所述基材支撑机构包括支撑架底座以及支撑面，所述支撑面固定安装在支撑架底座上；所述基材拉紧机构包括设置在支撑面两端的放料端与收料端，所述放料端包括第一压紧胶轮与张力轮，所述收料端包括第二压紧胶轮与搬送轮。与现有技术相比，本实用新型对基材在水平方向上采用拉紧动作，在竖直方向上采用支撑动作，提高了基材表面的平整度，从而有效的保证了基材曝光面与曝光镜头焦平面保持一致性；该装置结构简单、易于加工，成本低，且操作简单；既能满足双面

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212515345 U (45)授权公告日 2021.02.09 (21)申请号 202021442744.6 (22)申请日 2020.07.21 (73)专利权人杭州新诺微电子有限公司