GB/T 41751-2022氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法.pdf

ICS77.040 CCSH21 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT41751 2022 氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法 TestmethodforradiusofcurvatureofcrstallaneinGaNsinle y p g crstalsubstratewafers y 2022-10-12发布 2023-02-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 国家标准化管理委员会 / — GBT41751 2022 前 言 / — 《 : 》 本文件按照 标准化工作导则 第 部分 标准化文件的结构和起草规则 的规定 GBT1.1 2020 1 起草。 。 。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利 本文件的发布机构不承担识别专利的责任 本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )与全国半导体设备和材料标准 SACTC203 化技术委员会材料分技术委员会( / / )共同提出并归口。 SACTC203SC2 : 、 、 本文件起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 苏州纳维科技有限公司 中国电子 、 、 、 科技集团公司第四十六研究所 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 厦门柯誉尔科技有限公司 山西华晶 、 。 恒基新材料有限公司 福建兆元光电有限公司 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 本文件主要起草人 邱永鑫 徐科 王建峰 任国强 李腾坤 左洪波 郑树楠 刘立娜 杨鑫宏 、 、 。 邝光宁 丁崇灯 陈友勇 Ⅰ / —