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6.3 离子晶体的点缺陷及其导电性 由于离子晶体是由正负离子在库仑力的作用下结合而成的,因而使离子晶体中的缺陷带有一定的电荷,这就是引起离子晶体的点缺陷具有一般点缺陷所没有的特性。因此有必要对其进行单独讨论。 6.3.1 离子晶体中的点缺陷 离子晶体的结构特点是:正、负离子相间排列在格点上,每一个离子均被配位数相等的异号离子所包围。无论是形成正、负离子空位,还是形成正、负填隙离子,都会在缺陷处形成正的或负的带电中心。显然, 型离子晶体中共有4种带电的本征缺陷,成为正电中心的点缺陷有负离子空位和正填隙离子,而带负电的有正离子空位和负填隙离子,如图6.3-1所示。 由于整个晶体保持电中性,这就限定在离子晶体中,对肖脱基缺陷应有数目相同的正、负离子空位,而对夫伦克尔缺陷,则应有数目相同的正离子空位和正填隙原子,以及数目相同的负离子空位和负填隙离子。 图6.3.1 离子晶体中的缺陷 类似于6.1节的讨论,平衡时离子晶体中某种点缺陷的数目 (6.3.1) 式中, 代表产生一对电荷相反的点缺陷所需要的能量。如对肖脱基缺陷, 就代表产生一对分离的正、负离子空位所需要的能量。 一般说来,离子晶体中的负离子的半径比正离子的半径大,所以负填隙离子比正填隙离子难以形成。 离子晶体中的点缺陷除了本征热缺陷外,还可能存在替位式杂质和填隙式杂质缺陷,它们一般也是带电中心。例如, 将 掺入到 晶体中, 将替代 占据格点位置,但由于两者的电荷不同,替位的 便成为一个正电中心。为了保持晶体的电中性,必定同时产生一个正离子空位。这可以由掺入 后, 晶体的密度降低得到证实。 6.3.2 离子晶体的导电性 理想的离子晶体是典型的绝缘体,满价带与空带之间有很宽的禁带,热激发几乎不可能把电子由满价带激发到空带上去。但实际上离子晶体都有一定的导电性,其电阻明显的依赖于温度和晶体的纯度。因为温度升高和掺杂都可能在晶体中产生缺陷,所以可以断定离子晶体的导电性与缺陷有关。实验发现,当离子晶体中有电流通过时,会在电极上沉淀出相应离子的原子,这说明载流是正、负离子。另外,如前所述,在 晶体中掺入 后,可产生 离子空位, 含量越大, 空位的数目也就越多。实验发现,室温下 晶体的导电率与杂质 的浓度成正比。这些实验事实都直接证实了离子晶体是借助缺陷运动而导电的。 从能带理论可以这样理解离子晶体的导电性:离子晶体中带电的点缺陷可以是束缚电子或空穴,形成一种不同于布洛赫波的局域态。这种局域态的能级处于满带和空带的能隙中,且离空带的带底或者满带的带顶较近,从而可能通过热激发向空带提供电子或接受满带电子,使离子晶体表现出类似于半导体的导电性。 综上所述,离子晶体的导电现象是由带电点缺陷在外电场作用下运动产生的。为了导出电导率与温度的关系,先考虑一个正的填隙离子在沿 方向的电场 作用下的运动情况 图6.3.2 在无外电场时, ,带电点缺陷处于对称的势阱中,如图6.3.2(a)所示。点缺陷在热涨落作用下向左或向右的跳跃几率是相同的,即是无规则的布朗运动,不产生宏观电流。当沿着 方向存在一电场 时,晶格中的势场是为电势场与晶格势场之 和。若取间隙位置为势能零点,间隙在 方向的距离为 ,正填隙离子的电荷为 ,则势阱左、右两边的势垒高度分别为 和 。 从而使正填隙离子向左和向右的跳跃几率分别为 (6.3.2) (6.3.3) 向左、向右的跳跃几率实际上可以认为是单位时间向左、向右所跳动的步数。由于每次跳动的距离是 ,所以单位时间填隙离子平均沿电场移动的距离,即平均速率为 (6.3.4) (6.3.5) 式中 对于既可作扩散运动又可在外电场下作“漂移”运动的带电粒子,只要忽略它们之间的相互作用,爱因斯坦关系就都成立。 在弱电场
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