各膜层对光刻胶灰化的影响-液晶与显示.pdf

第 卷 第 期 液晶与显示 ３０ 　 ４ 　　 Vol．３０　No．４ 　 　　　　 　　　　　　ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas 年 月 q y p y ２０１５ ８ 　 　 　 Au．２０１５ g 文章编号: ( ) １００７Ｇ２７８０２０１５０４Ｇ０６１６Ｇ０５ 各膜层对光刻胶灰化的影响 * , , , , , 白金超 张光明 郭总杰 郑云友 袁剑峰 邵喜斌 ( , ) 北京京东方显示技术有限公司 北京 １００１７６ : , , . 摘要 研究各膜层对灰化速率的影响 增强对灰化工艺的了解 为四次光刻工艺改善提供参考 采用探针台阶仪测量在 , . : 相同灰化条件下不同膜层样品的灰化速率和有源层损失量 对结果进行机理分析和讨论 实验结果表明 有源层会降低 , / , . , / 灰化速率 源 漏金属层可以增大灰化速率 栅极金属层对灰化速率无影响 对于正常膜层结构的阵列基板 源 漏层图 , , , / . / 形密度越大 灰化速率越小 图形密度每增大 １％ 灰化速率下降 １４nm min 有源层和源 漏金属层对灰化等离子体产 , . 生影响 从而影响灰化速率 : ; ; ; 关 键 词 薄膜晶体管阵列工艺 四次光刻 光刻胶 灰化 　 　 中图分类号: 文献标识码: : / TN１４１．９　　 A　　doi１０．３７８８YJYX０６１６ Effectoffilmlaeron hotoresistashin y p g ∗ , , , BAIJinＧchao ZHANGGuanＧmin GUOZonＧie g g gj , , ZHENGYunＧou YUANJianＧfen SHAOXiＧbin y g ( , ,