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- 2021-06-03 发布于四川
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- | 2018-12-28 颁布
- | 2019-07-01 实施
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本标准规定了应用扫描表面检查系统对抛光片、外延片等镜面晶片表面的局部光散射体进行测试,对局部光散射体与延伸光散射体、散射光与反射光进行区分、识别和测试的方法。
ICS77.040 H21 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT19921 2018 代替 / — GBT19921 2005 硅抛光片表面颗粒测试方法 Testmethodfor articleson olishedsiliconwafersurfaces p p 2018-12-28发布 2019-07-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 中国国家标准化管理委员会 / — GBT19921 2018 目 次 前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅲ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 术语和定义 ……………………………………………………………………………………………… 1 4 方法提要 ………………………………………………………………………………………………… 4 5 干扰因素 ………………………………………………………………………………………………… 5 6 设备 ……………………………………………………………………………………………………… 7 7 测试环境 ………………………………………………………………………………………………… 7 8 参考样片 ………………………………………………………………………………………………… 8 9 校准 ……………………………………………………………………………………………………… 8 10 测试步骤………………………………………………………………………………………………… 9 11 精密度…………………………………………………………………………………………………… 9 12 试验报告………………………………………………………………………………………………… 9 ( ) … 附录 规范性附录 针对 线宽技术用硅片的扫描表面检查系统的要求指南 A 130nm~11nm 11 ( ) …………………………… 附录 规范性附录 测定扫描表面检查系统 坐标不确定性的方法 B XY 18 ( ) ………
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