GB/T 14144-2009硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法.pdf

犐犆犛２９．０４５ 犎 ８０ 中华人 民共和 国国家 标准 ／ — 犌犅犜１４１４４ ２００９ 代替 ／ — ＧＢＴ１４１４４ １９９３ 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法 犜犲狊狋犻狀 犿犲狋犺狅犱犳狅狉犱犲狋犲狉犿犻狀犪狋犻狅狀狅犳狉犪犱犻犪犾犻狀狋犲狉狊狋犻狋犻犪犾狅狓 犲狀 犵 狔犵 狏犪狉犻犪狋犻狅狀犻狀狊犻犾犻犮狅狀 ２００９１０３０发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 ／ — 犌犅犜１４１４４ ２００９ 前 言 　　 本标准修改采用 《用红外吸收法测量硅中间隙氧原子含量的标准方法》。 ＳＥＭＩＭＦ１１８８１１０５ 　　 本标准与 ＳＥＭＩＭＦ１１８８１１０５相比，主要有如下不同： ———增加了测量点选取方案； ———标准编写按 ／ 格式，部分 标准中的章节进行了合并和整理。 ＧＢＴ１．１ ＳＥＭＩ 本标准代替 ／ — 《硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法》。 ＧＢＴ１４１４４ １９９３ 本标准与原标准相比，主要有如下变化： ———氧含量测量范围进行了修订； ———增加了“测量仪器”、“术语”和“干扰因素”章节； ———增加了采用经认证的硅中氧含量标准物质对光谱仪进行校准的内容； ———将原标准中“本标准适用于室温电阻率大于 · 的硅晶体”改为“本标准适用于室温电 ０．１ ｃｍ Ω 阻率大于 · 的 型硅单晶和室温电阻率大于 · 的 型硅单晶”； ０．１ ｃｍ ｎ ０．５ ｃｍ Ω Ω ｐ ———样品厚度范围修改为“０．０４ｃｍ ０．４ｃｍ”。 ～ 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准起草单位：峨嵋半导体材料厂。 本标准主要起草人：杨旭、江莉。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为： ——— ／ — 。