氢化非晶硅薄膜的电场诱导锉离子注人及其光伏特性-应用化学.PDF

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第 卷 第 期 应用化学 伙 ‘ ‘ ! ! ’ 气 年 月 氢化非晶硅薄膜的电场诱导锉离子注人及其 伏特性 ‘ 王 宝辉 王 德军 李铁津 耿新华 刘世 国 孙 云 孙钟林 学化学系 长 南开 学 电子研究所 天津 吉林大 春 大 , , 一 , 要 采用 化学方 在电场诱导下 对氢化非晶硅 膜进行锉离子注 并用 电 摘 电 法 薄 入 化学方法对不 同 件下处理的 一 薄膜的 性质和注入机理进行了研 究 结果表明 处理 电 , 条 伏 位小于一 , 铿 子注入 明显 经过注入的 膜, 响应提高 左右 时 离 薄 伏 关键词 非晶硅薄膜 锉 子注入, 响应 离 伏 一 , , 氢化非晶硅 是新型半导体材料 主要应用于太阳能 电池 我国小面积非晶硅太阳 「‘ , , 、 , 已 」 川 能电池转换效 超过 人 采用 种方法 如 子 杂 导 电 结 和 面 率 们 各 离 掺 膜 构 表 修饰 一 提高 电池的转换效率 电化学注入技术是在 电化学作用下将 种元素或 子 来 薄膜 某 离 , , , , 注入到材料表面或者 内部 改变材料的物理

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