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表面清洁药水分析规范 一、铜粒子分析： 1、取槽液1ml于250ml的锥形瓶中，加入150ml的纯水，加入3-5mL浓氨水(此时为蓝色)，静置5分钟至反应完全，加入5到10滴PAN指示剂，用0.1mol/L的EDTA标准溶液滴定至溶液呈绿色为终点 2、计算：Cu2+（g/L）=VEDTA×NEDTA×63.54/样品取样数ml 3、分析频率：1次/天 4、槽液维护：当Cu2+20g/L时换槽或稀释药水。 二、微蚀缸之微蚀量的分析： 1、剪切“10cm×10cm”铜片一片避免污染，用分析天平称铜片重量（天平应精确到0.001g）。让铜片在清洗线设备上运行一次。将铜片冷却后称重（避免指印或其它污染）。 2、计算：微蚀率=（铜片处理前重量－铜片处理后重量）/0.000892×2×铜片面积 3、分析频率：1次/天 三、微蚀缸之H2O2的分析： 1、取1ml槽液于250ml 锥形瓶中，加入50ml的DI水，加入10%的H2SO410mL，加入8到10滴亚铁试剂溶液，用0.1N的硫酸铈铵标准溶液滴定至蓝色。 2、计算：H2O2(﹪)=V硫酸铈铵×0.36 3、控制范围：4-6 ﹪ 最佳值：5﹪ 分析频率：1次/天 四、酸洗缸之H2SO4的分析： 1、取1ml槽液，放置于250ml烧杯中，加入50ml纯水，加2-3滴甲基橙指示剂 ,摇匀，以0.5N氢氧化钠溶液滴定(边摇动锥形瓶)至溶液由红色转为黄色为止; 2、计算：H2SO4%=V×1.33 3、控制范围:3-5% 最佳值:4% 分析频率：1次/天 4、药液添加H2SO4(L)=(标准值—分析值)×V÷100 DES线药水分析规范 一、显影之Na2CO3的分析： 1、移取槽液5ml于250ml锥形瓶中，加入50ml的DI水，加入3-5滴0.1%的甲基橙指示剂，用0.1N的HCl滴定至溶液变成红色为止 2、计算：Na2CO3(g/L)=VHCl×0.106 3、控制范围：0.85-1.2% 最佳值：1.0% 分析频率：1次/天 4、药液添加Na2CO3(kg)=(标准值-分析值)×V÷100 二、蚀刻缸之Cu2+的分析： 1、移取槽液1ml于250ml锥形瓶中、加50ml纯水、加2gKI固体、加入1ml淀粉指示剂、用0.1NNa2S2O3标准溶液滴定至乳白色 2、计算:Cu2+(g/L)=6.35×V 3、控制范围：110-150g/L ,最佳值:130g/L 分析频率：1次/天 4、槽液维护：当铜离子偏低时，放几块刚性板进行咬蚀用以提高之 三、蚀刻缸之HCL 的分析： 1、吸取槽液1ml于100ml的容量瓶中，加入纯水稀释至刻度，取以上药液10ml于250ml的锥形瓶中，加入3滴甲基红指示剂，用0.1N的NaOH标准溶液定至溶液呈黄色为终点 2、计算：HCl（mol/L）=V 3、控制范围：1.5-2.5mol/L 最佳值：2.0mol/L 分析频率：1次/天 4、药液添加HCL(L)=(标准值-分析值)×V÷0.1×9÷1000 四、退膜缸之NaOH的分析： 1、用移液管取2ml槽液，放置于250ml烧杯中，加6.4.2.3加2-3滴酚酞指示剂，加入50ml纯水，以0.1NHCL溶液滴定至溶液由红色转为无色为止。 2、计算：NaOH(%)=V×0.1 3、控制范围：2-4% 最佳值：3% 分析频率：1次/天 4、药液添加NaOH(kg)=(标准值—分析值)×V÷100 五、酸洗缸之H2SO4的分析： 1、取1ml槽液，放置于250ml烧杯中，加入50ml纯水，加2-3滴甲基橙指示剂 ,摇匀，以0.5N氢氧化钠溶液滴定(边摇动锥形瓶)至溶液由红色转为黄色为止; 2、计算：H2SO4%=V×1.33 3、控制范围:3-5% 最佳值:4% 分析频率：1次/天 4、药液添加H2SO4(L)=(标准值—分析值)×V÷100 镀哑锡药水分析规范 一、微蚀缸之Cu2+ 的分析 1、吸取槽液2ml于250ml的锥形瓶中，加入50ml的纯水，加入3-5mL浓氨水(此时为蓝色加入3滴PAN指示剂用0.1mol/L的EDTA标准溶液滴定至溶液呈绿色为终点。 2、计算：Cu2+（g/L）=VEDTA×3.177 3、分析频率：1次/天 4、槽液维护：当Cu2+≥20g/L时换槽 生产线也可根据更换时间:1次/月 二、微蚀缸之H2SO4的分析： 1、取1ml槽液，放置于250ml烧杯中，加入50ml纯水，加2-3滴甲基橙指示剂，以0.5N氢氧化钠溶液滴定至溶液由红色转为黄色为止。 2、计算：H2SO4%=V×1.33 3、控制范围：2-4% 最佳值：3% 分析频率：1次/天 4、药