浅谈中子反射仪-TWNSS.PDFVIP

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浅谈中子反射仪-TWNSS

物理專文 淺談中子反射儀 文/蘇暉家、李志浩 中子反射儀對於生物以及磁性薄膜樣品方面的量測有非常大的幫 助。透過對於樣品反射率的量測與分析,可以了解到薄膜樣品的縱深分 布,如:成分、厚度及界面粗糙度等訊息。本文將介紹中子反射儀如何 被應用在軟物質以及磁性樣品上,簡單的理論及分析方法,並說明現在 台灣在中子反射儀應用上的情形,以及與世界的學術橋樑如何在此一方 面接軌。 一、前言 子力顯微鏡與掃描式穿隧顯微鏡其縱向的解析度可達 中子反射儀在於研究軟物質及磁性薄膜上是非常 0.05 nm ,似乎是量測表面結構之最佳選擇,可是若欲 有用的 [1] 。中子反射儀主要是用來量測樣品的反射 測量深層界面之變化,就變得束手無策了;X 光反射 率,透過反射率可以得知樣品膜的密度、厚度以及樣 率量測法在表面薄膜分析上是一種很有力的工具,可 品的表面和界面的粗糙度。對薄膜的各項特性研究, 以藉由反射率曲線來瞭解薄膜的層數、厚度、粗糙度、 也被學術界及工業界所重視。由於中子具有自旋對於 垂直於表面及界面的密度變化以及內擴散的現象,較 磁性材料之測量相當有利。近幾十年來,磁性薄膜的 為適用的範圍在厚度為 2 nm 到 200 nm 之間的薄膜, 大量應用,對磁性薄膜中磁矩縱深分佈,也是一個熱 其粗糙度可達 Å 級解析度的範疇。其優點有非破壞性 門的主題。除了磁性薄膜以外,對於凝態物理、生物 檢測,樣品準備容易,分析方法簡單,不需真空及適 樣品的研究,日來更是如火如荼在展開。在研究這些 合臨場實驗,所得到的參數是整體的平均貢獻等。其 主題上,有各式各樣的分析工具及技術,如:掃描式 缺點就是 X 光本身並未帶有磁矩,在磁性薄膜上必須 電子顯微鏡,高解析度低能電子繞射,高能電子繞射, 以異常磁散射法,來獲取磁結構,但是 X 光磁散射除 掃描式穿隧顯微鏡,原子力顯微鏡,X 光反射率…等 了特殊共振之情形下,其信號相當弱,在強大的電子 等。以上的分析技術各有其優缺點。簡單舉例 [2] : 散射環伺下,實驗的技術及信號之處理必須十分小 以電子顯微鏡而言,雖然可以得到實際的影像,但樣 心。為了分離中子磁散射及核散射之貢獻,利用中子 品製作複雜,且只能看局部區域;電子繞射法在表面 反射對於垂直於膜面的磁矩的特性,若將強磁場加在 原子排列以及樣品成分分析上較佳,可是電子的多重 垂直膜面的方向,則可以量測不到磁性薄膜磁散射的 散射,會造成在數據的分析上會有較大的困難;而原 部分,而將核散射部分準確定出,此一部分所得到的 結果,會與 X 光反射率所量測到的結果如出一轍。另 蘇暉家 1,2 、李志浩1,2 外,X 光對於元素的散射截面大小會與元素的原子序 1 國立清華大學工程與系統科學系 大小成正比關係,對於鄰近元素不容易分辨。而中子 2 國立清華大學原子科學技術與發展中心 對於不同元素及同位素的散射截面成不規則變化,所 蘇暉家: train2827@ 以對於不同的元素及同位素的鑑別力相當強。又因為 李志浩: chlee@.tw 中子對於輕元素,尤其是 H 原子散射截面相當大,所 ■ 60 ■ 物理

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