nm工艺尝试及相关设计-Indico.PDF

65nm工艺尝试及相关设计 SMU Futian Liang，Datao Gong，Tiankuan Liu，Annie Xiang ，Jingbo Ye…… IHEP 陆卫国，王铮 项目背景 • 工艺调研 foundri 价格 MPW起 工艺支 申请难 – 采用更小的工艺 es （万元，订面积 持 度 人民币）(mmxm 尺寸（65nm ）是 m) 高密度读出ASIC smic 120 5x5 易 的发展方向之一 tsmc 200 5x5 最好 难（最 – SMIC提供更好的 长3~4 工艺支持 个月） • EDA中心提供 globlefo 50~60 3x3 Commo 难 undries n SMIC免费的MPW platfor 的机会 m 项目背景 • 时间、人力都有限 • 设计环境需要建立 – OA数据库的设计软件 – 新版的cadence和calibre及license支持 • 工艺需要熟悉 – 1P8M，CMOS，LL – Core 1.2V，IO 2.5V – （Hvt，lvt，standard ）MOSfets，MOM电容…… • 简化SMU 已有的设计并移植 – 激光器驱动器 – 伪随机数产生器…… SMU相关原始设计 On-detector, rad-tol Off-detector, COTS Laser VCSELs Up PIN diode Trans- Interface drivers Links impedance ADC chip serializers OM3/OM4 amplifiers FPGA Data LOCic LOCsx LOCld Optical TIA deserializer deframer fibers