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脉冲激光纳米薄膜制备技术_李美成
29 6 2000 12
Vol. 29No. 6 Infrared and Laser Engineering Dec. 2000
: 1007-2276(2000) 06-0031-05
*
1 2 2 2 1
李美成 , 陈学康 , 杨建平 , 王菁 , 赵连城
( 1. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院, 哈尔滨 150001;
2.兰州物理研 所激光分子束外延技术实验室,兰州 730000)
: 脉冲激光薄膜沉积(PLD) 是近年来受到普遍关注的制膜新技术简要介绍了该技术的
物理原理;探讨了脉冲激光沉积制膜的物理过程, 激光作用的极端条件及等离子体羽辉形成的控制
对薄膜成长的影响; 评价了脉冲激光沉积技术在多种功能材料薄膜, 特别是纳米薄膜及多层结构薄
膜的制备方面的特点和优势结合自行研制的设备,介绍了在PLD 基础上发展起来的兼具分子束
外延(MBE) 技术特点的激光分子束外延技术( L-MBE) 指出脉冲激光沉积技术在探讨激光与物
质相互作用和薄膜成膜机理方面的作用, 尤其是激光分子束外延技术在高质量的纳米薄膜和超晶
格等人工设计薄膜的制备上显现出的巨大潜力
: 脉冲激光沉积; 纳米薄膜; 激光分子束外延; 红外探测器
: O484. 1 :A
Pulsed laser deposition of nanometer thin films
1 2 2 2 1
Li Meicheng , hen Xuekang , Yang Jianping , Wang Jing , Zhao Liancheng
( 1. School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, hina, 150001)
2. Laboratory of Laser Molecular Beam Epitaxy, Lanzhou Instituteof Physics, Lanzhou, hina, 730000)
Abstract : The pulsed laser deposition (PLD) is a new promising technique for the growth of thin
films attended generally by people recently. In this paper, the physical principle of PLD is introduced
briefly, the physical process is discussed, it is seen that the uttermost condition of laser and theforma-
tion of plasma affect the form of films. Unique characteristics and the advantages of this technique to
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