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一回路辅助系统ppt详细培训教材 电力系统
第四章 一回路辅助系统 第 四 章 一回路辅助系统 第一节化学和容积控制系统(RCV) RCV功能 主要功能: 容积控制:通过上充和下泄功能维持PZR水位 化学控制:除去腐蚀和裂变产物控制放射性水平;控制pH值、氧及其他溶解气体含量,防止腐蚀、裂变气体积聚和爆炸 反应性控制:与REA配合调节CB以跟踪反应性慢变化 辅助功能: 提供主泵轴封水 PZR辅助喷淋水 上充泵作高压安注使用 RCP单相时控制压力 一回路充水、排气及打压 容积控制 目的:协助PZR吸收一回路水容积变化,维持PZR水位在整定值。(水容积变化原因:温度变化、泄漏) 原理:上充、下泄的匹配,并由TEP、REA进行配合 化学控制 目的:维持要求的一回路水化学性质以控制设备部件腐蚀 措施: 1.注入联氨(N2H4),减少溶解氧的浓度; 2.注入LiOH,控制pH值; 3.通过净化(过滤、离子交换)除去悬浮及离子杂质 反应性控制 反应性变化原因: 燃耗;中子毒物的累积;温度效应 控制目的: 维持功率运行时控制棒组位置,保证足够的停堆裕度 措施; 加硼、稀释、除硼 RCV系统流程 下泄回路 冷却、降压过程:下泄流155bar,292℃→经001EX降温至140 ℃ →经01/02/03DI降压至24bar →经02RF降温至46 ℃ →经013VP降压并由001FI过滤后进入净化回路 01EX上充、下泄流之间的热交换,以回收热量; 三台并联孔板正常只有一个投运,下泄流量较大的特殊情况下投运两台或三台 02RF将下泄流冷却至离子交换树脂正常运行温度; 013VP由阀前(孔板后)压力信号控制 01FI过滤器滤去大于5um的悬浮颗粒 017VP受02RF后的温度信号控制,高于57℃时,为保护离子交换树脂,自动切换,将下泄流直接导入02BA RCV系统流程 净化回路 经017VP(由02RF出口温度控制)进入一台混床(两台并联),除去大多数裂变及腐蚀产物,后至阳床除去铯和锂 阳床03DE在混床01、02DE之后,以间歇方式运行,以降低放射性,调节pH值 三通阀026VP在一回路需要降低硼浓度时,将冷却剂导向TEP除硼 02FI用于除去离子交换树脂碎片 RCV系统流程 上充回路 下泄流进入容控箱(02BA),经喷头喷出、雾化,释放出的裂变气体由氢气或氮气带往TEG。上充泵(RCV01、02、03PO)由02BA提供水源,把水压提高至177bar后,一路经046VP及01EX管侧进入主系统,另一路经061VP进入轴封水回路 容控箱功能 作为一回路的缓冲箱,水位过高时向TEP排放,水位过低时由REA补水; 控制一回路氧含量:由之向一回路注入氢 除气:收集其中的裂变气体定期排向RPE 氮清扫:在一回路打开前实施,以避免氢氧混合爆炸 作为高位水箱,保证上充泵的净吸入压头 上充泵 共三台上充泵,RCV001PO为A列,由LHA供电,RCV002/003PO共为B列,由LHB供电 由于供电限制,002、003PO不能同时启动,两者的电源开关“反向”机械连锁,因此正常工况下,B列一台投运,另一台冷备用,A列001PO作为第一备用(热备用),只在定期试验和安注情况下投运 上充管线的控制与调节 046VP正常自动,由PZR水位调节系统控制开度,必要时可切换为手动控制 自动状态下的流量限值: 低限6 m3/h,以维持01EX下泄侧出口温度<195℃,避免在孔板中汽化; 高限25.6 m3/h,以维持轴封水注入流量(压力)在允许值 安注工况下,由048、050VP隔离上充管线 主泵全部停运时,关闭050VP,打开227VP,投入辅助喷淋以调节RCP压力,喷淋流量由046VP控制 轴封注水、回流及过剩下泄回路 轴封水的来源 过剩下泄由RCP2环过渡段引出,作为正常下泄的备用 过剩下泄流经021RF冷却后和轴封回流汇合,返回上充泵入口 正常工况下RCV状态 RCP下泄通过正常下泄管线实施;过剩下泄管线、低压下泄管线处于“隔离”状态;辅助喷淋管线隔离 一组下泄孔板和一台上充泵投运,上充流量由RCV046VP按PZR水位要求自动控制 一回路水容积的变化主要由PZR吸收(通过其水位信号控制046VP开度),另通过02BA水位信号控制030VP向TEP开度及启动REA提供有限补偿 根据需要启动REA调节硼浓度以补偿反应性变化 一台混床除盐器投运 停堆工况下RCV状态 净化:一回路压力降到3巴时,可停运上充泵,此时通过RRA泵,利用低压下泄管线及RCV至RRA的净化回水管线对一回路水进行净化。 无上充泵的情况下,由容控箱保证轴封水的供应(调整容控箱内氮气压力大于3巴,调节RCV061VP保证轴封注水不小于200升/小时) RCV02BA水位控制 水位在49%~63%范围内时,控
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