6-8英寸硅抛光片扩产项目环境影响报告表.docVIP

6-8英寸硅抛光片扩产项目 环响报 环评文件确认书 建设单位 某电项电项为废过达标GB16297-1996)二级排标经调节达岩东污处进网标过保税区统岩东污处经岩东污处级处项目声为类设备运声产车间声70～85dB之间产过产固废过类收集质处原则对废环卫部门运电 建设项目况项称项设单电联通讯保税联系电话传邮编设点保税项审批部门文号设质 改扩 行业类别码C41 占地面积22368.82㎡ 绿积8276㎡ 总投资(万元) 其中：环资环资总投资% 评经费预产2006年1月 工程内容及规模 项目背景 某电子股份有限公司(以下简称“某电子”)系由某大学半导体学科相关的技术和管理人员共同组建的股份制企业，于2000年6月21日在某保税区注册成立。五年来，通过贯彻“立信、立德、务实、创新”的理念，遵循着“追求纯净完美，满足顾客期望”的宗旨，致力于半导体的研制。公司在技术上以某大学硅材料国家重点实验室某大学半导体材料研究所为依托拥有按国际一流的生产要求设计，最高净化级别为0.1μm10级4-6英寸重掺砷、磷单晶锭抛光片、外延片的生产基地, 公司募集资金等来解决问题拟在未来的年中投入5-7亿元人民币技术改造资金，进一步提高单晶硅锭产量和外延片生产规模,建立中国最大的具有国际影响力的年产吨4-8英寸单晶硅锭和-8英寸外延片的生产基地分别全球市场规模的 使公司年销售规模达到8-10亿元电设项目环护条实环电环护学设计对该项进环响评产内规项目报项产 根据生产分工情况，其二个企业目前主要包括已建工程、在建研发项目、公用工程概况及三废排放情况如下： 一、已建工程概况 1、某半导体有限公司生产及污染情况 (1)企业概况 某半导体有限公司成立于1998年，主要从事单晶硅片的加工生产，由某电子股份有限公司全资控股。其年生产能力为单晶硅抛光片300万片，注册资本5000万元，职工定员175人。 (2)生产工艺 其生产工艺及排污位置如下： (3)主要设备 其主要生产设备如下： 序号 名称 数量 单位 序号 名称 数量 单位 1 27英寸切片机 31 台 6 硅片干燥机 8 台 2 16英寸切片机 5 台 7 自动硅片热处理炉 6 台 3 磨片机 12 台 8 高纯水设备30t/h 1 套 4 倒角机 15 台 高纯水设备12t/h 1 套 5 硅片清洗机 22 台 9 压缩空气系统20m3/h 7 套 (4)主要原材料消耗 主要原材料消耗量如下： 序号 名称 用量 序号 名称 用量 1 单晶硅 100t/a 6 行星片 500片/a 2 27英寸内园刀片 100片/a 7 冷却液 40t/a 3 16英寸内园刀片 2000片/a 8 研磨液 10t/a 4 倒角砂轮 120片/a 9 硅片包装盒 20000个/a 5 研磨砂 100t/a 根据现有企业实际情况，其生产用水45t/d，纯水用量146t/d。 (5)三废排放情况 ①废水： 根据生产工艺调查，生产过程废水产生情况为： 切割废水产生量6t/d，其废水水质：COD150mg/l，SS1000mg/l，PH7.2； 研磨废水产生量153t/d，其废水水质：COD610mg/l，SS1000mg/l，PH8.3； 酸碱废水产生量20t/d，其废水水质：COD250mg/l，SS100mg/l，PH5.0～11； 清洗废水产生量10t/d，其废水水质：COD210mg/l，SS100mg/l，PH6～10； 目前厂内进行清污分流，对生产废水排入废水处理站处理达标后排放。 ②废气： 废气主要为腐化工序产生的酸性废气，其主要成份为HF、HNO3，其废气排放量主要通过引风机，采用水洗吸收塔吸收处理后通过排气筒排放。现有5套废气处理装置，其每套处理风量为989.5m3/h，其总废气排放量为4947.5m3/h。废气经处理后正常运行情况下可以达到GB16297-1996《大气污染物综合排放标准》。 2、某电子股份公司生产及污染情况 (1)企业概况 某电 ②硅外延片生产工艺 硅外延片生产工艺及排污位置如下图： (3)主要生产设备 ①单晶硅晶锭生产主要生产设备如下： 序号 名称 数量 单位 序号 名称 数量 单位 1 单晶炉 14 台 6 检测仪器 5 台 2 真空泵 18 台 7 冷却塔 2 组 3 割断机 3 台 8 高纯水设备20t/h 1 套 4 滚圆机 2 台 5 清洗机 3 台 ②硅外延片生产主要设备 其主要生产设备如下： 序号 名称 型号 数量 单位 序号 名称 型号 数量 单位 1 外延炉 PE2061S 6 台 7 4PP测试仪 1 台 2 C-V测试仪 1 台 8 清洗机 1 台 3 SRP测试仪 SSM-2000 1 台 9 甩干机 1 台 4 FTIP测试仪 1 台 10