[建筑]土方方案.docVIP

目 录 1、编制依据…………………………………………………………….2 2、工程概况…………………………………………………………….2 3、施工方案编制原则………………………………………………….5 4、施工准备…………………………………………………………….5 5、施工方法…………………………………………………………….4 6、安全文明施工及环境保证保证措施………………………………9 7、施工过程的边坡监测………………………………………………10 8、施工组织管理机构…………………………………………………11 9、土方开挖及基础施工的应急预案…………………………………11 10、附图…………………………………………………………………14 一、编制依据 1.施工图纸 序号 图纸名称 编号 1 中国电子科技集团第十一研究所《新建科技楼（中心大楼）》 结02结构说明 2 中国电子科技集团第十一研究所《新建科技楼（中心大楼）》 结04基础布置 2. 规范、规程 序号 规范、规程名称 编号 1 《土方与爆破工程施工及验收规范》 GB201-83 2 《建筑机械使用安全技术规程》 JGJ33-86 3 《建筑施工场界噪声限值》 GB12523-90 3. 其它 序号 地质勘探报告 编号 1 中国电子科技集团第十一研究所《新建科技楼（中心大楼）》之《岩土工程详细勘察报告》 2011 115 2 本工程施工组织设计 3 施工现场实际情况 二、工程概况 工程名称：新建科研楼（中心大楼）建设项目。 建设单位：中国电子科技集团公司第十一研究所; 设计单位：信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司; 监理单位：北京希达建设监理有限责任公司； 施工单位：中国新兴保信建设总公司 建设性质：高层科研建筑。 工程条件及特点： 本工程地处北京市朝阳区酒仙桥4号中国电子科技集团公司第十一研究所所区内，所区北邻酒仙桥北路，西邻首都机场辅路，东邻驼房营路，南与电子城产业园其它地块相接。建筑性质为高层科研建筑，建筑地下两层，地上七层建筑高度40.7m；本建筑占地面积3465.28 m2，建筑面积为25649.12m2，其中地上17225 m2，地下8424.12m2；开挖面积较大。 在研究所院内，场地狭窄，且四周为建筑物，周边20米内为研究所办公楼，土方施工难度大。在798艺术区内（人流较大），场外交通道路狭窄，土方运输车辆场内外交通都较为不方便。 施工东南角处新开施工大门外道路已与798艺术区内的物业部门联系，我公司在该路面上铺设20厚铁板（满足我方施工车辆交通需要），对方已同意使用其道路。 工程地质条件： 根据北京市地质工程勘察院提供的《岩土工程详细勘察报告》，土层自地表而下分布如下： 表层为人工堆积的房渣土①层，粘质粉土①1层，细砂填土①，填土总厚度0.7～8.00m； 第二层：②层于标高27.86～35.18m为粘质粉土、砂质粉土； 第三层：③层于标高27.86～31.47m为粉细沙，夹粉质粘土、粘质粉土③1层； 第四层：④层于标高23.86～25.19m为重粉质土粘土，夹粘质粉土、砂质粉土④1层； 第五层：⑤层于标高20.61～23.58m为细粉砂; 第六层：⑥层于标高16.38～18.99m为粉质粘土、粘质粉土，夹砂质粉土、粘质粉土⑥1层、细砂⑥2层; 第七层：⑦于标高11.06～15.23m以下为细粉砂。 基础持力层为③细砂层，持力层承载力标准值为160～200Kpa之间，要求将较软细砂层清理，采用级配砂石换填处理。 水文地质条件： 根据北京市地质工程勘察院提供的﹤岩土工程详细勘察报告﹥，第一层上层滞水静止水位标高29.27～30.65（埋深5.00～6.80m）、第二层潜水静止水位标高25.83～26.36（埋深9.40～10.00m）、第三层承压静止水位标高18.15～18.67（埋深17.10～17.70m）。近3～5年地下水位标高一般在33.00m（即-3.05m，包括上层滞水）。 本工程基础为筏板基础，底标高为-10.050m/-9.650m、局部为-11.80m（即24.25m）在第二层地下水位线上（9.40～10.00m）。 槽边距建筑物，南侧15.8m、北侧13.7m、西侧7.4m、东侧11.9m;38.3m.拟建物基坑开挖较深，本工程降水施工由专业公司负责施工，护坡桩支护（由专业公司施工），满足边坡稳定。 土方施工预计在7月进行，正值北京地区的雨季（雨季施工措施见专项方案）。 三、施工方案选择原则 本基坑深基坑，开挖土方工程量较大，土方开挖必须密切配合护坡桩支护施工，才能确保施工进度和施工质量及安全。 1、严格绘制基坑开挖图，正确确定基坑开挖边线和基底不同标高处的开